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無(wú)錫硅晶片清洗超純水設(shè)備|電鍍清洗純水設(shè)備 

^{無(wú)錫硅晶片清洗超純水設(shè)備|電鍍清洗純水設(shè)備}

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一、硅晶片清洗超純水設(shè)備

1、采用離子交換樹(shù)脂制備硅晶片清洗超純水設(shè)備的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→陽(yáng)床→陰床→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)。

2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合制備電子工業(yè)超純水的方式，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)。

3、采用反滲透設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進(jìn)行搭配制備硅晶片清洗超純水設(shè)備的方式，這是一種制取超純水的最新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿�巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)。

二、硅晶片清洗超純水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域

1、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水。

2、超純材料和超純化學(xué)試劑勾兌用超純水。

3、實(shí)驗(yàn)室和中試車間用超純水。

4、汽車、家電表面拋光處理。

5、光電子產(chǎn)品。

6、其他高科技精微產(chǎn)品。