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頂立科技立式化學氣相沉積爐(沉積炭) 

概述:立式化學氣相沉積爐(沉積炭)可用于以碳氫氣體(如C3H8等)為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理
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服務區域:
全國
聯系電話:
18874256050
信用:4.0  隱性收費:4.0
描述:4.0  產品質量:4.0
物流:4.0  服務態度:4.0
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立式化學氣相沉積爐(沉積炭)技術特征

根據爐膛尺寸與結構設置溫區,溫度均勻性好;

采用特殊結構沉積室,密封效果好,抗污染能力強;

采用多通道沉積氣路,流場均勻,無沉積死角,沉積效果好;

對炭沉積過程中產生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效的處理


立式化學氣相沉積爐(沉積炭)產品規格

參數\型號 VCVD-0305-C VCVD-0608-C VCVD-0812-C VCVD-1015-C VCVD-1120-C VCVD-1520-C HCVD-151530-C
工作區尺寸D×H(mm) Φ300×500 Φ600×800 Φ800×1200 Φ1000×1500 Φ1500×2000 Φ1500×2000 Φ2600×3200
最高溫度(℃) 1500 1500 1500 1500 1500 1500 1500
溫度均勻性(℃) ±5 ±5 ±7.5 ±7.5 ±10 ±10 ±15
極限真空度(Pa) 50 50 50 50 50 50 50
壓升率(Pa/h) 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67

以上參數可根據工藝要求進行調整,不作為驗收依據,具體以技術方案和協議為準。


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