頂立科技立式化學氣相沉積爐(沉積炭)
概述:立式化學氣相沉積爐(沉積炭)可用于以碳氫氣體(如C3H8等)為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理
本信息已過期,發布者可在"已發商機"里點擊"重發"。
立式化學氣相沉積爐(沉積炭)技術特征
[本信息來自于今日推薦網]
根據爐膛尺寸與結構設置溫區,溫度均勻性好;
采用特殊結構沉積室,密封效果好,抗污染能力強;
采用多通道沉積氣路,流場均勻,無沉積死角,沉積效果好;
對炭沉積過程中產生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效的處理
立式化學氣相沉積爐(沉積炭)產品規格
參數\型號 | VCVD-0305-C | VCVD-0608-C | VCVD-0812-C | VCVD-1015-C | VCVD-1120-C | VCVD-1520-C | HCVD-151530-C |
工作區尺寸D×H(mm) | Φ300×500 | Φ600×800 | Φ800×1200 | Φ1000×1500 | Φ1500×2000 | Φ1500×2000 | Φ2600×3200 |
最高溫度(℃) | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 |
溫度均勻性(℃) | ±5 | ±5 | ±7.5 | ±7.5 | ±10 | ±10 | ±15 |
極限真空度(Pa) | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 |
壓升率(Pa/h) | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 |
以上參數可根據工藝要求進行調整,不作為驗收依據,具體以技術方案和協議為準。
[本信息來自于今日推薦網]

- hndlkj發布的信息
- 頂立科技高真空燒結爐,燒結爐廠家,真空爐
- 高真空燒結爐主要用于鎢合金、磁性材料、高比重合金、鉬合金和硬質合金等制品的燒結及陶瓷氧化鋯發黑等。...
- 頂立科技壓力熔滲爐,燒結爐,壓力爐
- 壓力熔滲爐(1MPa,2MPa)產品規格 參數/型號 PSF-040408 PSF-050513 工作區尺寸 W×H×L(mm) 400×400×8...
- 頂立科技臥式化學氣相沉積爐(沉積炭)
- 化學氣相沉積爐(沉積炭)可用于以碳氫氣體(如C3H8等)為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理。...
- 頂立科技臥式化學氣相沉積爐(碳化硅)
- 該化學氣相沉積爐(碳化硅)可用于以硅烷為氣源的材料表面抗氧化涂層、基體改性等。...
- 頂立科技立式化學氣相沉積爐(碳化硅)
- 立式化學氣相沉積爐可用于以硅烷為氣源的材料表面抗氧化涂層、基體改性等。...
- 頂立科技臥式真空碳化爐,真空爐,碳化爐
- 真空碳化爐主要用于炭/炭復合材料、碳纖維保溫材料、高導熱石墨膜的高溫碳化處理。...